Dieser Beschleuniger dient hauptsächlich zur Ionenimplantation. Dafür…

… stehen verschiedenen Implantationskammern bereit, die Probengrößen bis zum Durchmesser von 100 mm erlauben. Bei einer Implantation kann der Strahl mit elektrostatischen Ablenkeinheiten über die Probenfläche gescannt werden, um eine hohe Homogenität über die Implantationsfläche zu erreichen.

Der 100 kV Implanter ist mit einer Sputter-Ionenquelle ausgestattet, die mit Ausnahme der Edelgase eine Vielzahl von Ionensorten bereitstellen kann. Die in der Quelle erzeugten negativen Ionen können auf Energien von wenigen keV bis zu 100 keV beschleunigt werden. Nach der Beschleunigung wird der Ionenstrahl durch einen 90°Magneten analysiert, so dass der analysierte Ionenstrahl praktisch frei von Verunreinigungen anderer Ionensorten ist. Darüber hinaus ist der Ionenstrahl vor allem für die leichteren Ionen isotopenrein, d.h. man hat die Wahl z.B. für Kohlenstoff zwischen den Isotopen ¹²C und ¹³C zu wählen.