Oberflächenchemische Untersuchung von ALD und CVD Dünnschichten

Dieses Projekt unterstützt die schon etablierten RUBION-Projekte der IMC Gruppe. Komplementär zu dem RBS/NRA Projekt werden ausgewählte Dünnschichten der XPS und AES Analyse unterzogen, um Einsichten in ihre oberflächenchemische Zusammensetzung zu erhalten.

Gefördert durch

Diesem Projekt ist keine Förderung zugeordnet.

Publikationen

  • Zywitzki D et al.: Tuning Coordination Geometry of Nickel Ketoiminates and Its Influence on Thermal Characteristics for Chemical Vapor Deposition of Nanostructured NiO Electrocatalysts. Inorg. Chem. 2020 DOI: 10.1021/acs.inorgchem.0c01204
  • Boysen N et al.: A carbene stabilized precursor for the spatial atomic layer deposition of copper thin films. Chem. Commun. 2020 DOI: 10.1039/D0CC05781A
  • Boysen N et al.: Atomic layer deposition of dielectric Y2O3 thin films from a homoleptic yttrium formamidinate precursor and water. RSC Adv. 2021 DOI: 10.1039/D0RA09876K
  • Yu P et al.: Fabrication of GdxFeyOz films using an atomic layer deposition-type approach. CrystEngComm 2021 DOI: 10.1039/D0CE01252A

Abschlussarbeiten

Dieses Projekt hat keine Abschlussarbeiten