Partiell fluorierte Metalloxidfilme

Wir untersuchen derzeit die Abscheidung von Metalloxidfilmen mittels chemischer Gasphasenabscheidung (CVD) ausgehend von partiell fluorierten Acetylacetonatmetallkomplexen. Hierbei interessiert uns der zusammenghang zwischen dem Fluorierungsgrad der verwendeten Precursoren und der resultierenden Dotierung von Fluor in die Metalloxidschicht (CoO und Co3O4). Einen derartigen Zusammenhang konnten wir bereits mittels TOF-SIMS Messungen feststellen, jedoch nicht ausreichend quantifizieren. Um diese Ergebnisse zu quantifizieren und darüber hinaus auch die Schichten hinsichtlich N-Dotierung und Metall/Sauerstoff-Verhältnis zu untersuchen, würde wir gerne RBS und DNRA Messungen durchführen lassen.

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